[发明专利]一种用于DUV光刻装置的掩模对准面形探测装置有效
| 申请号： | 201010135955.X | 申请日： | 2010-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102207683A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 王海江;唐文力;李运锋;程鹏;陈振飞;宋海军;韦学志;胡明辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于DUV光刻装置的掩模对准面形探测装置，包括：面形探测标记，包含多个独立的探测标记；光学滤波器，包含多个光学滤波器单元，将DUV转化成可见光；面形的硅光电二极管，包括多个独立的单元；放大器，包括多路放大器单元；信号处理元件，具有多个信号处理单元；模数转换元件，具有多个模数转换单元对相应的信号处理单元输出的模拟信号进行模数转换；运算处理元件和上位机；其中，面形探测装置具有多个探测单元，每个探测单元都有相应的一个探测标记、一个光学滤波器单元、一个硅光电二极管单元，一个放大器单元、一个信号处理单元、一个模数转换单元。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 duv 光刻 装置 对准 探测 | ||
【主权项】：
一种用于DUV光刻装置的掩模对准面形探测装置，该装置包括探测部分和处理部分，其中探测部分包括：面形探测标记，包含多个独立的探测标记；光学滤波器，包含多个光学滤波器单元，将DUV转化成可见光；面形的硅光电二极管，包括多个独立的单元，对转化后的可见光进行探测；放大器，包括多路放大器单元，对面形的硅光电二极管的每个单元输出的信号进行放大；处理部分包括：信号处理元件，具有多个信号处理单元，对从信号输出线缆输出的放大器的信号进行处理；模数转换元件，具有多个模数转换单元对相应的信号处理单元输出的模拟信号进行模数转换；运算处理元件，控制模数转换元件并接收转换后的数字信号，对数字信号进行处理，直接换算出标记成像相对于面形探测装置探测区域表面中心的位置；上位机，控制运算处理元件工作，并接收运算处理元件的处理结果；其中，面形探测装置具有多个探测单元，每个探测单元都有相应的一个探测标记、一个光学滤波器单元、一个硅光电二极管单元，一个放大器单元、一个信号处理单元、一个模数转换单元。
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