[发明专利]一种用于微纳米坐标测量的多测头测量方法与装置

摘要

本发明为一种用于微纳米坐标测量的多测头测量方法与装置。将微纳米多测头系统安装在三维高精度位移平台上，Z向平移台上安装载物台，载物台下面有俯仰和偏摆微调机构。多测头系统的测量装置放置在隔离腔中，测量装置的控制信号和多测头系统的传感信号与隔离腔外的DAQ卡，控制箱和计算机相连。将一个测头中心作为坐标系的原点，把其他几个测头所在位置坐标依次匹配到坐标系中。对多测头系统进行校准，对各测头在统一坐标系中的位置坐标进行校准。测量时，由与被测点最近的测头进行测量。将各被测点对应的三维位移平台的位移量，转换为各被测点在坐标系中的坐标，计算出被测尺寸。本发明方法具有工作效率高、测量精度高的优点。

主权项

一种用于微纳米坐标测量的多测头测量方法，其特征在于：将微纳米多测头系统安装在三维高精度位移平台上，构成一套测量装置，三维位移平台由X向平移台，Y向平移台和Z向平移台组装而成，Z向平移台上安装载物台，载物台上表面为水平面，用于放置被测工件，载物台下面有俯仰和偏摆微调机构，可以调整载物台的承载面，使之与三维平台的Z向严格垂直；在三维位移平台的周围位置有4个立柱，4个立柱上安装一块平板，多测头系统通过夹持机构固定在平板上。