[发明专利]成像调整单元及应用其的调焦调平控制系统

摘要

本发明提出一种成像调整单元及应用其的调焦调平控制系统。调焦调平控制系统包括照明单元、标记板、投影成像单元、接收成像单元、探测器和控制器。照明单元产生光束，光束经过标记板上的多个标记形成多条入射光线，入射光线成像在硅片面上，形成多个标记投影。硅片面反射标记投影形成多条反射光线，反射光线成像于探测器。控制器根据探测器的探测结果控制工件台移动。成像调整单元包括位于入射光线光路中的第一成像调整单元和位于反射光线光路中的第二成像调整单元。第一成像调整单元调整入射光线的光程以同时聚焦在硅片面上。第二成像调整单元调整反射光线的光程以同时聚焦在探测器的探测面上。本发明的成像调整单元结构简单，安装方便。

主权项

一种成像调整单元，用于光刻机中的调焦调平控制系统，所述调焦调平控制系统包括照明单元、标记板、投影成像单元、接收成像单元、探测器和控制器，所述照明单元产生光束，所述光束经过标记板上的多个标记形成带有不同标记信息的多条入射光线，投影成像单元将所述入射光线投射至硅片，使得所述入射光线在硅片的硅片面上成像，形成多个标记投影，所述硅片面反射所述多个标记投影形成多条反射光线，接收成像单元将所述多条反射光线投射至所述探测器的探测面，使得所述多条反射光线在探测面上成像，所述控制器与所述探测器电性连接，所述控制器根据所述探测器的探测结果控制承载硅片的工件台移动，其特征是，所述成像调整单元包括：第一成像调整单元，位于所述多条入射光线的光路中，包括：多个第一调整棱镜，分别调整所述多条入射光线的光程，以将所述多条入射光线同时聚焦在所述硅片面上；以及第二成像调整单元，位于所述多条反射光线的光路中，包括：多个第二调整棱镜，分别调整所述多条反射光线的光程，以将所述多条反射光线同时聚焦在所述探测器的探测面上。