[发明专利]二元有序多孔薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 201010137371.6 | 申请日： | 2010-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN102199003A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 贾丽超;王洪强;蔡伟平;刘广强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;C04B41/85;C04B41/50 |
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| 地址： | 230031*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二元有序多孔薄膜及其制备方法。薄膜由大小直径分别为250～5000nm和50～250nm、大小比例为5～20∶1的球形孔氧化物构成，薄膜厚度为250～25000nm，其中的每层大孔按六方有序结构排列，小孔位于本层大孔之间，且每层大、小孔间相互连通；方法为先将二元有序胶体晶体模板浸入浓度为0.05～0.2M的半导体氧化物前驱体溶液中，待二元有序胶体晶体脱离基底并漂浮在前驱体溶液中后，用所需形状的衬底将其捞起，再将其上覆盖着浸有前驱体溶液的二元有序胶体晶体的衬底置于80～120℃下加热1～4h，然后重复上述步骤0次以上后，将其置于300～400℃下退火1～4h，制得二元有序多孔薄膜。它可广泛应用于声子衍射栅、光学过滤器、干涉仪、化学和生物传感器等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 二元 有序 多孔 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种二元有序多孔薄膜，由衬底和其上的薄膜组成，其特征在于：所述薄膜由两种不同直径的球形孔状氧化物构成，所述两种球形孔直径间的大小比例为5～20∶1，其中，大直径球形孔的直径为250～5000nm、小直径球形孔的直径为50～250nm；所述每层大直径球形孔按六方有序结构排列，所述小直径球形孔位于本层大直径球形孔之间，且每层大、小直径球形孔间相互连通；所述薄膜的厚度为250～25000nm，所述氧化物为半导体氧化物。
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