[发明专利]一种等离子气相沉积方法有效
申请号: | 201010139762.1 | 申请日: | 2010-01-26 |
公开(公告)号: | CN101851743A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | M·I·卡拉瑟斯;S·伯吉斯;A·威尔比;A·拉斯托吉;P·里奇;N·里默 | 申请(专利权)人: | SPP加工技术系统英国有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种在工件中的凹槽内等离子气相沉积金属的方法。该方法通过利用Ar和He和/或Ne的混合物作为溅射气体来实现对凹槽底部金属的再溅射,其中He和/或Ne∶Ar的比值至少为约10∶1。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 沉积 方法 | ||
【主权项】:
通过用溅射气体溅射金属靶以实现将凹槽底部的金属再溅射至侧壁的方式在工件中的凹槽内等离子气相沉积金属的方法,其特征在于溅射气体是Ar和He和/或Ne的混合物,其中He和/或Ne∶Ar的比值至少为约10∶1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SPP加工技术系统英国有限公司,未经SPP加工技术系统英国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010139762.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:动态信号污染抑制
- 下一篇:利用发光二极管室内照明的数据传输
- 同类专利
- 专利分类