[发明专利]阵列基板、液晶面板及其制造方法有效
申请号: | 201010141582.7 | 申请日: | 2010-04-06 |
公开(公告)号: | CN102213877A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 张培林 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333;H01L27/12 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种阵列基板、液晶面板及其制造方法。涉及液晶显示装置领域,在一定程度上抵消了对盒后的液晶面板由于重力作用或者外力作用发生的形变,有效地控制了盒厚的均一性。阵列基板包括:基板以及形成在基板上的各层阵列图形,阵列图形包括内应力层,内应力层产生内应力使阵列基板形成为向阵列图形一侧凸起形变的拱形结构。液晶面板包括阵列基板和在重力作用下弯曲形变的彩膜基板,以及置于对盒后的阵列基板和彩膜基板之间的液晶,阵列基板包括:基板以及形成在基板上的各层阵列图形,阵列图形包括内应力层,内应力层产生内应力使阵列基板形成为向阵列图形一侧凸起形变的拱形结构。本发明应用于液晶显示装置。 | ||
搜索关键词: | 阵列 液晶面板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,包括:基板以及形成在所述基板上的各层阵列图形,其特征在于,所述阵列图形包括内应力层,所述内应力层产生内应力使所述阵列基板形成为向所述阵列图形一侧凸起形变的拱形结构。。
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