[发明专利]一种制作全息光栅的方法有效

专利信息
申请号: 201010142320.2 申请日: 2010-03-25
公开(公告)号: CN101840193A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 李朝明;陈新荣;潘君骅;吴建宏;胡祖元 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G03H1/12 分类号: G03H1/12;G02B5/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场,在全息记录基板上进行全息曝光,经显影后,获得所需光栅。其特征在于:在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜,通过控制变形镜,获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中,由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统;利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光,记录全息光栅,经显影,完成所需低衍射像差光栅的制作。
搜索关键词: 一种 制作 全息 光栅 方法
【主权项】:
一种制作全息光栅的方法,由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场,在有像差光栅基底上进行全息记录,获得低衍射波像差全息光栅,特征在于:在其中一支记录光束的光路中置入一块可变形反射镜,构成波面可调光路,通过干涉仪检测变形镜面形,变形镜控制器控制和调节变形镜的面形,实现记录光波面的控制,获得可控的全息干涉记录光场;制作方法包括如下步骤:(1)用干涉仪检测全息光栅基底的面形,获取全息光栅基底的像差分布数据;在此有像差的全息光栅基底上涂布光刻胶,制成全息记录基板;(2)根据全息光栅基底像差分布数据,由全息光栅衍射波像差计算公式,求出使光栅衍射波像差为零时,所需要的全息记录干涉光场波面数据,并求出可调平行光的波面数据,以及变形镜的目标面形数据;(3)用干涉仪检测变形镜的面形,获得变形镜的面形数据,根据面形数据,调节变形镜的控制器,直至变形镜达到目标面形;所述变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者之间构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统;(4)利用经过上述变形镜调整后获得的全息记录干涉光场对全息记录干板曝光,进行全息记录,经显影,完成低衍射波像差全息光栅的制作。
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