[发明专利]一种直写光刻机的自动聚焦光路结构无效

专利信息
申请号: 201010143766.7 申请日: 2010-04-07
公开(公告)号: CN101807012A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 李文静;何少锋 申请(专利权)人: 芯硕半导体(中国)有限公司
主分类号: G03F7/207 分类号: G03F7/207
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230601 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种直写光刻机的自动聚焦光路结构,即直写光刻机的自动聚焦系统。由直写光刻机的图形发生器生成的图案经过光刻物镜并返回后,通过光路分成两束,这两束光故意造成一定的光程差,分别成像在CCD相机的上、下表面,根据CCD相机上、下图案对比度的差异即可判断离焦的情况,从而驱动平台运动,达到快速聚焦的目的。具有速度快、精度高、结构简单等特点。
搜索关键词: 一种 光刻 自动 聚焦 结构
【主权项】:
一种直写光刻机的自动聚焦光路结构,包括有精密位移平台,所述精密位移平台上放置有晶圆,所述晶圆上方设置有光刻物镜,所述光刻物镜上方设置有图形发生器,所述图形发生器外还设置有照明光源,其特征在于:所述图形发生器和光刻物镜之间设置有第一分光镜,所述第一分光镜一侧的反射光路上设置有第二分光镜,所述第二分光镜上方的反射光路上设置有反射镜,还包括有CCD相机,所述反射镜的反射面朝向CCD相机感光面的上半表面,第二分光镜的透射面朝向CCD相机感光面的下半表面;图形发生器生成光栅图,照明光源发出的光入射至图形发生器后形成光栅图反射光,光栅图反射光经过第一分光镜、光刻物镜后成像于所述晶圆表面,晶圆表面所成的像沿入射光路返回至所述第一分光镜,并被第一分光镜的反射面反射至第二分光镜,一部分光透射过第二分光镜后入射至所述CCD相机感光面的下半表面上,另一部分光依次被所述第二分光镜的反射面、反射镜反射后,入射至所述CCD相机感光面的上半表面上。
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