[发明专利]一种硅基太阳能电池正面栅电极的制备方法有效
申请号: | 201010143939.5 | 申请日: | 2010-04-02 |
公开(公告)号: | CN101807627A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | 万青;郑策;方旭昶 | 申请(专利权)人: | 日强光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 温州瓯越专利代理有限公司 33211 | 代理人: | 李友福 |
地址: | 325000 浙江省温*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅基太阳能电池正面栅电极的制备方法。本发明采用如下技术方案:一种硅基太阳能电池正面栅电极的制备方法,其特征是:依次采用如下步骤:一、已经形成减反射膜的硅基太阳能电池正面上采用真空溅射的方法沉积一层5-50纳米厚金属膜;二、在金属膜上印刷一层正面栅电极形状的抗蚀图案;三、去除没有覆盖抗蚀图案的金属膜,形成电池正面栅电极图形;四、去除抗蚀图案,加厚正面栅电极。通过采用上述方案,本发明克服现有技术存在的不足,提供一种能改善正面栅电极与晶体硅之间的接触性能,而且能增强正面栅电极与晶体硅之间的附着力,降低电极的串电阻,提高太阳能电池的转换效率的新电极制备方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 正面 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硅基太阳能电池正面栅电极的制备方法,其特征是:依次采用如下步骤:(1)、已经形成减反射膜的硅基太阳能电池正面上采用真空溅射的方法沉积一层5-50纳米金属膜;(2)、采用印刷工艺在金属膜上印刷一层正面栅电极形状的抗蚀图案;(3)、采用化学腐蚀法去除没有覆盖抗蚀图案的金属膜,形成电池正面栅电极图形;(4)、去除抗蚀图案,采用电镀工艺加厚正面栅电极,并结合烧结工艺完成硅基太阳能电池正面栅电极的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的