[发明专利]热电装置及其形成方法有效
申请号: | 201010144277.3 | 申请日: | 2010-04-02 |
公开(公告)号: | CN102214784A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 三重野文健;郭景宗 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L35/32 | 分类号: | H01L35/32;H01L35/10;H01L35/34 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李丽 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种热电装置及其形成方法,其中热电装置包括:半导体衬底;贯穿半导体衬底的多个隔离结构、以及分别位于隔离结构两侧的n型热电结构、p型热电结构,且所述p型热电结构与n型热电间隔排列;位于半导体衬底上表面的多个第一导电电极,位于半导体衬底下表面的多个第二导电电极;其中第一导电电极电连接相邻的n型热电结构与p型热电结构,第二导电电极电连接相邻的n型热电结构与p型热电结构,且第一导电电极和第二导电电极将所有的n型热电结构,p型热电结构串联。采用本发明形成的热电装置冷却效果较佳。 | ||
搜索关键词: | 热电 装置 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种热电装置,其特征在于,包括:半导体衬底;贯穿半导体衬底的多个隔离结构、以及分别位于隔离结构两侧的n型热电结构、p型热电结构,且所述p型热电结构与n型热电间隔排列;位于半导体衬底上表面的多个第一导电电极,位于半导体衬底下表面的多个第二导电电极;其中第一导电电极电连接相邻的n型热电结构与p型热电结构,第二导电电极电连接相邻的n型热电结构与p型热电结构,且第一导电电极和第二导电电极将所有的n型热电结构,p型热电结构串联。
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