[发明专利]一种悬架结构光刻胶的涂胶方法有效
| 申请号： | 201010144358.3 | 申请日： | 2010-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN102213919A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 吴紫阳;杨恒;李昕欣;王跃林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，具有能够在沟槽、孔洞、微柱等结构上形成悬架结构，并用于光刻掩膜的特性。其具体步骤为：首先将少量一定浓度的光刻胶滴于极性溶液表面，使之在气-液界面自组装形成一定厚度的光刻胶膜，再将该光刻胶膜转移至已刻蚀出图形的半导体材料上，使之跨过沟槽和孔洞等形成悬架的光刻胶结构，之后对该光刻胶膜进行前烘、曝光、显影及后烘等步骤形成光刻图形。该光刻胶膜可实现刻蚀掩膜、牺牲层材料、胶保护等功能，其工艺过程简单、用料节省、成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 悬架 结构 光刻 涂胶 方法 | ||
【主权项】：
一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，其特征在于，包括以下步骤：1)使光刻胶在极性溶液表面自组装形成光刻胶膜；2)将所述光刻胶膜转移至已刻蚀有图形的半导体材料上；3)晾干水份，之后对所述光刻胶膜依次进行前烘、曝光、显影、后烘。
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