[发明专利]一种增强光学掩模分辨率及制造高分辨率光学掩模的方法

摘要

本发明公开了一种增强光学掩模分辨率的方法，在普通光学掩模的某些特定透光区域减少一层透明介质层，光波透过这层特殊介质的相位恰好与相邻透光区的透射光的相位相反，这两个区域的光，由原来的相加干涉变为了相消干涉，从而提高了光学掩模的分辨率。本发明同时公开了一种制造高分辨率光学掩模的方法，包括：在熔石英基片铬板上涂覆正性抗蚀剂，采用电子束直写光刻系统曝光出180°相位调节器图形，采用湿法腐蚀去除没有被抗蚀剂掩蔽的铬膜并去胶，采用刻蚀出与相当于曝光波长厚度的相位调节器图形，重新涂覆正性抗蚀剂，再次通过电子束直写光刻曝光出0°相位的图形区域并显影，采用湿法腐蚀去铬膜，去胶，制成分辨率增强光学掩模。

主权项

一种增强光学掩模分辨率的方法，其特征在于，该方法是在光学掩模的特定透光区域减少一层透明介质层，光波透过该特定透光区域后的相位与相邻透光区域透射光的相位相反，该特定透光区域和相邻透光区域的透射光，由原来的相加干涉变为相消干涉，抵消由于原来衍射效应造成的光强叠加，增强了光学掩模的分辨率。