[发明专利]抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物

摘要

本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由下述式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K¹和K²表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价噁唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L¹和L²表示-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-中的至少一种，M¹、M²、M³表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种，Y、Y¹、及Y²表示酸分解性键。k1、k2、l1、l2、m1、m2及m3为0或1。R¹表示氢原子或甲基。

主权项

1.下述式(7)表示的化合物，在式(7)中，S表示硫原子；K¹和K²各自独立地表示亚烷基；L¹和L²各自独立地表示选自由-C(O)O-、及-OC(O)-组成的组中的至少一种；M¹至M³各自独立地表示亚烷基；Y¹和Y²各自独立地表示酸分解性键；k1、k2、l1、l2、m1、m2、m3及n1各自表示K¹、K²、L¹、L²、M¹、M²、M³、及Y²的数量，其中k1、k2、l1和l2为1，m1、m2、m3及n1独立地为0或1；其中，上式(7)表示的化合物，是对于下述式(14)所示的化合物，加成下述式(15)所示的化合物，转换成下述式(16)所示的化合物后，进行二硫醇化而得到的，式(14)和式(16)中的M²表示亚烷基；m2表示0或1；R¹⁰、R¹¹各自独立地表示烷基、烯基或芳基，其中所述烷基、烯基或芳基是直链的、支链的或环状的、而且是碳原子数为1～18的R¹²、R¹³各自独立地表示氢原子或甲基；另外，式(15)和式(16)中的S表示硫原子，Z表示酰基或碱金属；其中，式(14)选自以下化合物：式中，R¹⁴、R¹⁵各自独立地表示碳原子数1～18的直链状、支链状或环状的烷基或烯基或芳基。