[发明专利]污水处理装置和污水再利用系统无效
| 申请号： | 201010147772.X | 申请日： | 2010-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101844854A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 武村清和;大西真人;吉川慎一;伊藤真实;上田新次郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立工业设备技术 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14;C02F1/44 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及污水处理装置和污水再利用系统。本发明目的是控制由卫星处理厂的污水处理装置储存的再利用水的水储存量。本发明的污水处理装置包括：膜分离活性污泥处理部分，其对流过污水管干线时由水引入部分被引入的一部分污水进行生物处理来产生第一处理的污水；膜高级处理部分，其对所述第一处理的污水进行膜高级处理来产生第二处理的污水；用于储存所述第一处理的污水的膜处理槽；用于储存所述第二处理的污水的膜高级处理槽；水位传感器，其分别测量所述膜处理槽和所述膜高级处理槽的水位；和动力控制部分，其在所述水位传感器测量的水位数据的基础上控制所述水引入部分的水引入量。 | ||
| 搜索关键词： | 污水处理 装置 污水 再利用 系统 | ||
【主权项】：
一种污水处理装置，包括：膜分离活性污泥处理部分，其对在流过污水管干线时通过水引入部分引入的一部分污水进行生物处理来产生第一处理的污水；膜高级处理部分，其对所述第一处理的污水进行膜高级处理来产生第二处理的污水；用于储存所述第一处理的污水的膜处理槽；用于储存所述第二处理的污水的膜高级处理槽；水位传感器，其分别测量所述膜处理槽和所述膜高级处理槽的水位；和动力控制部分，其在所述水位传感器测量的水位数据的基础上控制所述水引入部分的水引入量。
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