[发明专利]成像装置有效
| 申请号： | 201010148169.3 | 申请日： | 2010-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101867707A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 山本健二;市村功;早坂健吾;木岛公一朗 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种成像装置，包括：成像透镜，具有孔径光阑；成像元件，用于基于接收的光获得图像数据；以及微透镜阵列，设置在成像透镜与成像元件之间的成像透镜的焦平面上，微透镜阵列包括以每个微透镜与成像元件的多个成像像素相关联的方式配置的多个微透镜，其中，根据来自成像元件的成像透镜的图像的像高，将微透镜阵列的微透镜的配置从等距离配置校正至非线性配置。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种成像装置，包括：成像透镜，具有孔径光阑；成像元件，用于基于接收的光获得图像数据；以及微透镜阵列，设置在所述成像透镜与所述成像元件之间的成像透镜的焦平面上，所述微透镜阵列包括以每个微透镜与所述成像元件的多个成像像素相关联的方式配置的多个微透镜，其中根据所述成像元件上来自所述成像透镜的图像的像高，将所述微透镜阵列的所述微透镜的配置从等距离配置校正至非线性配置。
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