[发明专利]实现太阳能电池背表面缓变叠层钝化薄膜的方法无效
申请号: | 201010152173.7 | 申请日: | 2010-04-20 |
公开(公告)号: | CN101964378A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 刘亚锋 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C16/52 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及太阳能电池生产方法领域,尤其是实现太阳能电池背表面缓变叠层钝化薄膜的方法,在经处理后的太阳能电池硅片背光表面通过化学气相沉积工艺法进行沉积薄膜,开始沉积时的气体为SiH4和N2O的混合气体,在沉积过程中逐渐加入NH3,使得薄膜的组分由硅片表面的二氧化硅向外层变为硅的氮氧化物再向外层变为氮化硅,薄膜的厚度在50nm~300nm之间。本发明沉积速度快,产量高,能一次实现多种薄膜的沉积,沉积出来的薄膜致密度高。工艺中不需要高温过程,所需的热预算少,避免了热氧化的高温影响,这种叠层缓变薄膜能有效地降低由不同薄膜组合带来的界面态,且比起单纯的氮化硅改善了热稳定性,降低了膜应力。 | ||
搜索关键词: | 实现 太阳能电池 表面 缓变叠层 钝化 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种实现太阳能电池背表面缓变叠层钝化薄膜的方法,其特征在于:在经处理后的太阳能电池硅片背光表面通过化学气相沉积工艺法进行沉积薄膜,开始沉积时的气体为SiH4和N2O的混合气体,在沉积过程中逐渐加入NH3,使得薄膜的组分由硅片表面的二氧化硅向外层变为硅的氮氧化物再向外层变为氮化硅。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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