[发明专利]用于高功率微波源聚焦与回旋电子装置的超导磁体系统有效

专利信息
申请号: 201010152524.4 申请日: 2010-04-16
公开(公告)号: CN101819845A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 王秋良;胡新宁;严陆光;戴银明;王晖 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: H01F6/00 分类号: H01F6/00;H01F6/04;H03K17/92;H05H13/10
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于高功率微波源聚焦与回旋电子装置的超导磁体系统,其超导磁体(15)包括内层超导主线圈(1)、外层超导主线圈(2)、两个端部补偿线圈、调节线圈(4)和中心调节线圈(5)。线圈由Nb3Sn/Cu超导线绕制形成。通过制冷机(11)与高压氮气形成的固态氮使得超导磁体(15)可以脱机运行。超导磁体(15)与超导开关(18)构成的闭合回路实现磁场稳定,不受外界电磁干扰。超导磁体系统能够提供具有特殊空间分布的高稳定性的磁场。
搜索关键词: 用于 功率 微波 聚焦 回旋 电子 装置 超导 磁体 系统
【主权项】:
一种用于高功率微波源聚焦与回旋电子装置的超导磁体系统,包括制冷机(11)、真空容器(12)、支撑杆(13)、热辐射屏(16)、低温系统和超导磁体(15),其特征在于,所述的超导磁体系统中,超导磁体包括内层超导主线圈(1)、外层超导主线圈(2)、端部补偿线圈(3)、调节线圈(4)和中心调节线圈(5);所述的内层超导主线圈(1)、外层超导主线圈(2)、端部补偿线圈(3)、调节线圈(4)和中心调节线圈(5)同轴布置;内层超导主线圈(1)运行在低电流密度状态下;外层超导主线圈(2)位于内层超导主线圈(1)外,运行在高电流密度下;内层超导主线圈(1)和外层超导主线圈(2)共同作用产生磁体系统的主磁场;外层超导主线圈(2)绕制在内层超导主线圈(1)的外表面,并与内层超导主线圈(1)具有相同的长度;在外层超导主线圈(2)的外表面从磁体端部起依次是端部补偿线圈(3)、调节线圈(4)和中心调节线圈(5);超导磁体(15)的表面绕有热交换器(14),热交换器(14)和高压氮气容器(17)相连接;制冷机(11)冷却超导磁体(15)和高压氮气容器(17);所有所述的超导线圈通过超导接头与超导开关(18)连接,形成具有闭环稳恒电流。
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