[发明专利]产生光刻胶图案的方法

摘要

本发明提供一种产生光刻胶图案的方法，包括下列步骤：在衬底上施加第一光刻胶组合物然后进行干燥以形成第一光刻胶膜；预烘第一光刻胶膜；将预烘过的第一光刻胶膜曝露于辐射；烘焙曝露过的第一光刻胶膜；用第一碱性显影剂使烘焙过的第一光刻胶膜显影以形成第一光刻胶图案；使形成的第一光刻胶图案对下述步骤中的辐射无活性、不溶于碱性显影剂或者不溶于第二光刻胶组合物；在其上已经形成有第一光刻胶图案的衬底上施加第二光刻胶组合物，然后进行干燥以形成第二光刻胶膜；预烘第二光刻胶膜；使预烘过的第二光刻胶膜曝露于辐射；烘焙曝露过的第二光刻胶膜；和用第二碱性显影剂使烘焙过的第二光刻胶膜显影以形成第二光刻胶图案。

主权项

1.一种产生光刻胶图案的方法，包括下列步骤(1)至(11)：(1)在衬底上施加第一光刻胶组合物然后进行干燥从而形成第一光刻胶膜的步骤，所述第一光刻胶组合物包含：(a)树脂，含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且其自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差，但是通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶；(b)产酸剂；和(c)式(X)表示的交联剂：其中R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地表示以C1-C6烷氧基取代的C1-C6烷基，R¹⁵和R¹⁶各自独立地表示可具有一个或更多个取代基的C6-C10芳香烃基或C1-C6烷基；(2)预烘所述第一光刻胶膜的步骤，(3)使预烘过的所述第一光刻胶膜曝露于辐射的步骤，(4)烘焙曝露过的所述第一光刻胶膜的步骤，(5)用第一碱性显影剂使烘焙过的所述第一光刻胶膜显影从而形成第一光刻胶图案的步骤，(6)使形成的所述第一光刻胶图案对下述步骤(9)中的辐射无活性、使形成的所述第一光刻胶图案不溶于碱性显影剂或者使形成的所述第一光刻胶图案不溶于在下述步骤(7)中使用的第二光刻胶组合物的步骤，(7)在其上已经形成有所述第一光刻胶图案的所述衬底上施加第二光刻胶组合物、然后进行干燥从而形成第二光刻胶膜的步骤，(8)预烘所述第二光刻胶膜的步骤，(9)使预烘过的所述第二光刻胶膜曝露于辐射的步骤，(10)烘焙曝露过的所述第二光刻胶膜的步骤，和(11)用第二碱性显影剂使烘焙过的所述第二光刻胶膜显影从而形成第二光刻胶图案的步骤。