[发明专利]一种用于透射电镜研究的非晶态薄膜样品制备方法

摘要

本发明提供的用于透射电镜研究的非晶态薄膜样品制备方法，其特正在于采取A.衬底清洗，B.甩胶，C.生长材料，D.剥离的技术步骤，获得用于透射电镜实验的非晶态薄膜样品，生长薄膜材料的衬底，可采用载玻片、硅片、石英片或者宝石片。本发明方法工艺简单、成品率较高，不需引入机械、化学、离子束等减薄技术，具有不易污染、成本低、可操作性强的优点；用这种工艺制备的非晶态薄膜可以减少假象、破裂现象的发生。

主权项

一种用于透射电镜研究的非晶态薄膜样品制备方法，其特征在于通过以下步骤实现：A.衬底清洗，将作为衬底材料的载玻片，用洗洁剂在纯水中擦洗干净后放在重铬酸钾溶液中浸泡24小时，再用纯水冲洗干净，放到超声仪中用30W超声处理10分钟，取出用高纯氮气吹干；B.甩胶，在黄光暗室中用均胶机在经步骤A处理过的衬底上均匀地甩一层有机胶，均胶机转速设置为5000～7700转每分钟；C.生长材料，采用磁控溅射的方法在衬底上生长非晶薄膜材料，磁控溅射的生长工艺参数为：背景真空度2.0×10‑4～4.0×10‑4pa，溅射气体为高纯氩气，流量20～150sccm，衬底温度T为10～50℃，工作压强为0.8～1.5pa，溅射功率5～300W，薄厚20～200nm；D.剥离，将生长在衬底上的非晶态薄膜连同衬底一起放入丙酮中浸泡4小时，再放入乙醇中浸泡2小时后取出，待薄膜表面乙醇挥发完，得到用于电镜样品实验的非晶态薄膜。