[发明专利]ALD装置和方法有效

专利信息
申请号: 201010154378.9 申请日: 2003-01-17
公开(公告)号: CN101818334A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 奥弗·斯内 申请(专利权)人: 松德沃技术公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/687
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡胜利
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了ALD装置和方法,其中,一种设于具有反应器容器壁的反应器容器中的周边狭槽阀包括:基板传输狭槽,其穿过反应器容器壁;连续周边腔,其位于反应器容器壁内;连续周边密封提升头;以及致动器,其用于在打开位置和关闭位置之间移动密封提升头;密封提升头当处于关闭位置上时移入周边腔,当处于打开位置上时移出周边腔,基板传输狭槽与基板保持器的基板支承面大致共面,周边腔与基板传输狭槽大致共面,基板传输狭槽在密封提升头处于打开位置上时限定一条穿过反应器容器壁直至基板保持器的基板传输通道,并且密封提升头在其处于关闭位置上时将基板传输狭槽与反应器容器内部隔离开来。
搜索关键词: ald 装置 方法
【主权项】:
一种设于具有反应器容器壁的反应器容器中的周边狭槽阀,包括:一个基板传输狭槽,其穿过所述反应器容器壁;一个连续周边腔,其位于所述反应器容器壁内;一个连续周边密封提升头;以及一个致动器,其用于在打开位置和关闭位置之间移动所述密封提升头;其中,所述密封提升头当处于所述关闭位置上时移入所述周边腔,当处于所述打开位置上时移出所述周边腔,所述基板传输狭槽与所述基板保持器的基板支承面大致共面,所述周边腔与所述基板传输狭槽大致共面,所述基板传输狭槽在所述密封提升头处于所述打开位置上时限定一条穿过所述反应器容器壁直至所述基板保持器的基板传输通道,并且所述密封提升头在其处于所述关闭位置上时将所述基板传输狭槽与所述反应器容器内部隔离开来。
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