[发明专利]一种表面处理方法以及使用该方法的经表面处理的物品无效
| 申请号： | 201010156223.9 | 申请日： | 2010-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102206810A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 徐文光;郭信甫;唐炯文;郑博文 | 申请（专利权）人： | 徐文光 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种表面处理方法以及使用该方法的经表面处理的物品，本发明的表面处理方法包括：提供-基底；以及使用原子层沉积法形成一陶瓷层于基底的表面，其中，陶瓷层的厚度为1nm至1000nm。本发明的表面处理方法利用了原子层沉积法的技术，于基底(或物品)表面沉积陶瓷层，所形成的陶瓷层具有极佳的均匀性且全面完整地包覆基底。经由本发明的表面处理方法所处理的基底，其表面颜色会与基底本身的颜色相同或不同，且颜色会随着陶瓷层厚度而有所改变，除此之外经处理后的基底会同时具有防氧化/腐蚀的能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 处理 方法 以及 使用 物品 | ||
【主权项】：
一种表面处理方法，包括：提供一基底；以及使用原子层沉积法形成一陶瓷层于该基底的表面，其中，该陶瓷层的厚度为1nm至1000nm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
