[发明专利]用于降低包含铝硅酸盐的结垢的聚合物有效
申请号: | 201010157062.5 | 申请日: | 2003-06-20 |
公开(公告)号: | CN101875705A | 公开(公告)日: | 2010-11-03 |
发明(设计)人: | D·P·斯皮策;A·S·罗森伯格;H·I·海特纳;F·库拉 | 申请(专利权)人: | CYTEC技术有限公司 |
主分类号: | C08F212/08 | 分类号: | C08F212/08;C08F8/42;C08F8/32;C08G73/04;C08F279/02;C08F220/56;C08F230/08;C08F8/12;C01F7/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 项丹 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: |
本发明涉及用于降低包含铝硅酸盐的结垢的聚合物,提供了一种用于降低包含铝硅酸盐的结垢的聚合物,所述聚合物具有以下通式: |
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搜索关键词: | 用于 降低 包含 硅酸盐 结垢 聚合物 | ||
【主权项】:
1.一种用于降低包含铝硅酸盐的结垢的聚合物,所述聚合物具有以下通式:
式中,w=1%-99.9%,x=0.1%-50%,y=0%-50%,z=0%-50%,Q=C1-C10烷基、芳基、酰胺、丙烯酸酯、醚、COX’R,其中,X’=O或NH,R=H、Na、K、NH4、C1-C10烷基或芳基、或者任何其它取代基;X=NH、NR”或O;R’=C1-C10烷基或芳基;R”是H、C1-C3烷基、芳基、Na、K、或NH4;D=NR”2或OR”,条件是所有R和R”基团均不同。
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