[发明专利]周期性结构的非破坏性分析有效

专利信息
申请号: 201010158813.5 申请日: 2010-04-23
公开(公告)号: CN101988896A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 金荣东;郑珍谟;韩承镐 申请(专利权)人: 庆熙大学校产协力团
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47;G01N21/59
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;宋志强
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种周期性结构的非破坏性分析。在该方法中,设置虚拟周期性结构并将其划分成多层。通过利用李普曼-薛定谔方程以及M次插值,计算与所述虚拟周期性结构的反射率或透射率有关的物理性质。在对李普曼-薛定谔方程的离散化中采用的M次插值公式使得能够准确快速地计算周期性结构的物理性质。
搜索关键词: 周期性 结构 破坏性 分析
【主权项】:
一种周期性结构的非破坏性分析,包括以下步骤:(a)照射实际周期性结构,并测量与所述实际周期性结构响应于所述照射的反射率或透射率有关的至少一个物理性质;(b)通过以下步骤计算与虚拟周期性结构响应于所述照射的反射率或透射率中至少之一有关的至少一个物理性质,设置具有一维、二维或三维重复形状以及至少水平重复周期的虚拟周期性结构,将所述虚拟周期性结构划分成垂直堆叠的N层,根据所述虚拟周期性结构定义零级结构和扰动结构,所述扰动结构通过在扰动域中对所述零级周期性结构进行几何或物理改变而获得,计算在光入射到所述零级结构上时的零级反射波或透射波,针对所述虚拟周期性结构的至少一个划分层,使用M次插值(2≤M≤N)对李普曼‑薛定谔方程进行离散化,根据离散化的李普曼‑薛定谔方程计算扰动反射波或透射波,以及根据所述零级反射波或透射波以及扰动反射波或透射波计算扰动反射率或透射率;以及(c)将步骤(a)中测得的与反射率或透射率有关的至少一个物理性质与步骤(b)中计算出的与反射率或透射率中至少之一有关的至少一个相应物理性质进行比较。
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