[发明专利]含膦基有机物插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法与应用无效

专利信息
申请号: 201010159806.7 申请日: 2010-04-23
公开(公告)号: CN101831085A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 李殿卿;王丽静;冯俊婷 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08K13/02 分类号: C08K13/02;C08K3/28;C08K5/49;C08L23/06
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 何俊玲
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种含膦基有机物插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法与应用。该红外吸收材料,简写为POH-LDHs,其分子式为:(M2+)1-x(Al3+)x(OH)2(An-)a(NO3-)b·mH2O。该材料的制备方法是以水滑石为前体,采用离子交换法将膦基有机物阴离子插入到水滑石层间,组装得到晶相结构良好的含膦基有机物插层结构选择性红外吸收材料。该红外吸收材料具有优良的红外吸收能力,比MgAl-CO3-LDHs的红外吸收效果更好,是一种良好的红外吸收材料。该材料适于在聚乙烯或乙烯-醋酸乙烯共聚物等聚合物薄膜中应用。
搜索关键词: 含膦基 有机物 结构 选择性 红外 吸收 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种含膦基有机物插层结构选择性红外吸收材料,其分子式为:(M2+)1-x(Al3+)x(OH)2(An-)a(NO3-)b·mH2O其中M2+是Zn2+或Mg2+;An-代表层间荷电量为n的含膦基有机物阴离子,是C3H12NO9P32-、CH6O6P23-、C2H8O7P23-、C5H10NO7P2-、C2H5O5P2-、C6H7O3P2-、CH6NO3P2-、C2H5O3P2-或CH5O3P2-;化学式中NO3-或不存在;0.1<X<0.8;a,b分别为An-和NO3-的数量,n×a+b=X;m为结晶水数量,0.01<m<4。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010159806.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code