[发明专利]一种精密抛光晶片用有机物清洗液无效
| 申请号： | 201010162447.0 | 申请日： | 2010-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN102234595A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 惠峰;赵有文;朱蓉辉;高永亮 | 申请（专利权）人： | 云南中科鑫圆晶体材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 650031 云南*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及清洗液技术领域，特别是一种适用于精密抛光晶片的有机物去除清洗液。该有机物清洗液由醚和醇两种有机溶剂组成。醚在混合液中所占重量含量为5％到95％，醇所占重量含量为95％到5％。其中醚由下列中选出：甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、异丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。其中醚为石油醚。其中醇由下列选出：甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、异丙醇、丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、异戊醇。其中醇含有三个以下的羟基。其中醇含有一个羟基。其中醇为异丙醇。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精密 抛光 晶片 有机物 清洗 | ||
【主权项】：
一种适用于精密抛光晶片的有机物清洗液，其特征在于，该有机物清洗液由醚和醇两种有机溶剂组成。
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