[发明专利]超高纯氧化钆及其电化还原全封闭式萃取生产工艺有效
申请号: | 201010162827.4 | 申请日: | 2010-04-07 |
公开(公告)号: | CN101824537A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 祝文才;蔡志双;陈纪光;潘启萍;高坡 | 申请(专利权)人: | 赣州虔东稀土集团股份有限公司 |
主分类号: | C22B3/40 | 分类号: | C22B3/40;C22B59/00;C01F17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 341001 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明披露了一种制备超高纯氧化钆的全萃取工艺及其产品,它较以往的离子交换和色层萃取法具有产量大、成本低的特点,它是以粗钆富集物(Gd2O3品位10%-90%)为原料,采用P507和P204混合萃取剂,通过料液浓度、级数、相比和酸度等因素的优化控制,经过两步经典萃取分离,预先获得初级纯度的氧化钆(Gd2O3品位99.99%),然后再经过电化还原和全封闭式萃取分离进行深度纯化,除去微量稀土元素杂质,最终获得稀土杂质含量均在0.5ppm以下的超高纯氧化钆产品。 | ||
搜索关键词: | 高纯 氧化 及其 电化 还原 封闭式 萃取 生产工艺 | ||
【主权项】:
一种超高纯氧化钆,其特征在于,以重量计,REO>99%,Gd2O3/REO=99.999%-99.9999%;稀土杂质均在0.5ppm以下,最低可达0.03ppm;Fe2O3<1ppm、CaO<4ppm、SiO2<10ppm、Al2O3<30ppm、Cl-<50ppm,其他所有非稀土杂质均小于2ppm。
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