[发明专利]草酸铟溶解剂组合物有效
| 申请号： | 201010165519.7 | 申请日： | 2010-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101876076A | 公开（公告）日： | 2010-11-03 |
| 发明（设计）人： | 山口隆雄;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/32 | 分类号： | C23F1/32;C09K13/06;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 瞿卫军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种草酸铟溶解剂，解决了现有问题，该草酸铟溶解剂化学性地溶解去除沉积在由氧化铟锡(ITO)膜或氧化铟锌(IZO)膜形成的透明导电膜的湿蚀刻装置内的草酸铟。本发明涉及一种用于溶解去除在蚀刻装置体系内沉积的草酸铟的溶解剂组合物，其特征在于，所述溶解剂组合物为含有碱性成分以及从氨基多羧酸及其盐中选择的1种或2种以上的水溶液，本发明还涉及使用该溶解剂组合物的蚀刻装置体系内的清洗方法。 | ||
| 搜索关键词： | 草酸 溶解 组合 | ||
【主权项】：
一种溶解剂组合物，用于溶解去除在蚀刻装置体系内沉积的草酸铟，其特征在于，所述溶解剂组合物是含有碱性成分以及从氨基多羧酸及其盐中选择的1种或2种以上的水溶液。
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