[发明专利]集成电路3D存储器阵列及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010166150.1 申请日: 2010-04-19
公开(公告)号: CN101872788A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 龙翔澜;吕函庭 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L29/792 分类号: H01L29/792;H01L29/10;H01L27/115;H01L21/768
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种集成电路3D存储器阵列及其制造方法。该3D存储器元件是基于电极柱阵列及多个电极平面,所述多个电极平面在界面区与所述电极柱相交,所述界面区包含存储器构件,所述存储器构件包括可编程构件及整流器。可使用二维译码来选择所述电极柱,且可使用第三维上的译码来选择所述多个电极平面。
搜索关键词: 集成电路 存储器 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种存储器元件,其特征在于,包括:集成电路基板,包含存取元件阵列;多个导电层,通过绝缘层而彼此分离且与所述存取元件阵列分离;电极柱阵列,其延伸穿过所述多个导电层,该电极柱阵列中的电极柱接触所述存取元件阵列中的对应存取元件,且界定该电极柱与所述多个导电层中的导电层之间的界面区;以及存储器构件在于所述界面区,所述存储器构件中的每一者包括可编程构件及整流器。
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