[发明专利]光学部件的制备方法有效
| 申请号： | 201010167956.2 | 申请日： | 2010-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN101872030A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 伊藤俊树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 光学部件的制备方法包括用放射线照射放射线敏感的可聚合组合物的照射工序。该放射线敏感的可聚合组合物至少包括可聚合化合物(a)和可聚合或不可聚合的组分(c)。该照射工序至少包括用放射线只照射第一照射区域的第一步骤和用放射线只照射第二照射区域的第二步骤，该第一照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分，该第二照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分并且在尺寸和位置的至少一个上不同于该第一照射区域。当组分(c)可聚合时，在该第一和第二步骤中将组分(c)的聚合速率控制为低于可聚合化合物(a)的聚合速率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 部件 制备 方法 | ||
【主权项】：
光学部件的制备方法，其包括用放射线照射放射线敏感的可聚合组合物的照射工序，其中该放射线敏感的可聚合组合物至少包括：可聚合化合物(a)，和可聚合或不可聚合的组分(c)；该照射工序至少包括：用放射线只照射第一照射区域的第一步骤，该第一照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分，和用放射线只照射第二照射区域的第二步骤，该第二照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分并且在尺寸和位置的至少一个上不同于该第一照射区域；并且当组分(c)为可聚合时，在该第一和第二步骤中将组分(c)的聚合速率控制为低于可聚合化合物(a)的聚合速率。
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