[发明专利]液体供给构件、负压单元和液体排出设备有效
申请号: | 201010168495.0 | 申请日: | 2010-05-07 |
公开(公告)号: | CN101879816A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 青山和弘;末冈学;栗田义之 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/19 | 分类号: | B41J2/19;B41J2/175 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
液体供给构件、负压单元和液体排出设备,防止了气泡或者泡沫沉积到液体供给构件的内壁,由此改进了气泡或者泡沫的排出性。在形成有用于将液体供给到液体排出设备的流路的液体供给构件中,内壁面具有凹凸形状,在该凹凸形状中以预定的空间频率重复地设置山部和谷部。假设为液体排出设备设置的过滤器的开口直径等于R(μm),则上述空间频率的一个周期f(μm)位于R以上且 |
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搜索关键词: | 液体 供给 构件 单元 排出 设备 | ||
【主权项】:
1.一种液体供给构件,所述液体供给构件用于将液体供给到液体排出设备,且所述液体供给构件包括:过滤器,其被设置在所述液体供给构件的入口处;和重复地设置山部和谷部而形成的凹凸形状,其被设置于所述液体供给构件的内壁面,其中,假设所述过滤器的开口直径等于R(μm),则重复地设置所述凹凸形状的所述山部和所述谷部的空间频率的一个周期f(μm)位于R以上且
以下的范围,并且所述山部的最大高度Ry(μm)等于
或更大。
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