[发明专利]一种能监测硅片台位置精度的光刻机有效
| 申请号： | 201010170427.8 | 申请日： | 2010-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN102243440A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 郑教增;单世宝;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种能监测硅片台位置精度的光刻机，主要由照明系统、掩模版、掩模台、投影物镜成像系统、整机框架、硅片、硅片台等组成，其中硅片台主要由曝光台、曝光台支架、承片台、长条镜、干涉仪、水平定位台和大理石组成；水平定位台通过气浮与大理石相连，承片台位于水平定位台上，通过曝光台支架支撑曝光台，其特征在于在光刻机的承片台及曝光台支架相应位置安装位置传感器，通过位置传感器得到承片台和水平定位台之间的相对位置信息，从而测量出承片台位置坐标的漂移量，并进行补偿，提高了控制精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监测 硅片 位置 精度 光刻 | ||
【主权项】：
一种能监测硅片台位置精度的光刻机，主要由照明系统、掩模版、掩模台、投影物镜成像系统、整机框架、硅片、硅片台等组成，其中硅片台主要由曝光台、曝光台支架、承片台、长条镜、干涉仪、水平定位台和大理石组成；水平定位台通过气浮与大理石相连，承片台位于水平定位台上，通过曝光台支架支撑曝光台，其特征在于在光刻机的承片台及曝光台支架相应位置安装位置传感器，通过位置传感器得到承片台和水平定位台之间的相对位置信息，从而测量出承片台位置坐标的漂移量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010170427.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
