[发明专利]具有高、低两种折射率的多层光学薄膜厚度的校准方法有效

专利信息
申请号: 201010176538.X 申请日: 2010-05-18
公开(公告)号: CN101876537A 公开(公告)日: 2010-11-03
发明(设计)人: 顾培夫;艾曼灵;张梅骄;金波;陶占辉 申请(专利权)人: 杭州科汀光学技术有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/59
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 陈昱彤
地址: 311100 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种具有高、低两种折射率的多层光学薄膜厚度的校准方法,包括如下步骤:(1)以待校准的多层光学薄膜所用的高、低两种折射率材料作为原料,在基板上镀上结构为“2H 2L 2H 2L 2H 2L 2H”的高、低折射率交替的七层半波层膜系作试验样品;(2)测试得到试验样品的透射率曲线,并得到试验样品的实测中心波长及其短波侧和长波侧的透射率极小值;(3)将试验样品的实测中心波长与设定值的偏离量除以4得到试验样品的膜厚偏离量;(4)根据所述短波侧和长波侧的透射率极小值,得到试验样品的高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比;(5)根据试验样品的膜厚偏离量和/或高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比校准待校准的多层光学薄膜厚度。
搜索关键词: 具有 低两种 折射率 多层 光学薄膜 厚度 校准 方法
【主权项】:
一种具有高、低两种折射率的多层光学薄膜厚度的校准方法,其特征在于包括如下步骤:(1)以待校准的多层光学薄膜所用的高、低两种折射率材料作为原料,在基板上镀上高、低折射率交替的七层半波层膜系作为试验样品,所述七层半波层膜系具有“2H 2L 2H 2L 2H 2L 2H”的结构,其中,H表示高折射率膜的1/4波长的厚度,L表示低折射率膜的1/4波长的厚度;(2)用分光光度计测试得到试验样品的透射率曲线,根据该透射率曲线得到试验样品的实测中心波长以及实测中心波长的短波侧的透射率极小值和长波侧的透射率极小值,所述短波侧的透射率极小值和长波侧的透射率极小值与试验样品的实测中心波长相邻;(3)根据所述试验样品的实测中心波长与试验样品的设定中心波长的差值得到试验样品的中心波长偏离量,将所述试验样品的中心波长偏离量除以4得到试验样品的膜厚偏离量;(4)根据所述试验样品的实测中心波长的短波侧的透射率极小值和长波侧的透射率极小值得到试验样品的高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比;(5)按以下方法校准所述待校准的多层光学薄膜的厚度:1)如果所述试验样品的膜厚偏离量大于零,则将待校准的多层光学薄膜的中心波长相应调小;如果所述试验样品的膜厚偏离量小于零,则将待校准的多层光学薄膜的中心波长相应调大;所述待校准的多层光学薄膜的中心波长在调节后和调节前的差值为所述试验样品的膜厚偏离量的4倍;2)若所述试验样品的高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比不等于1,则制作高折射率膜层修正挡板和低折射率膜层修正挡板,根据试验样品的高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比来调节高折射率膜层修正挡板和低折射率膜层修正挡板的宽度比用以分别校准待校准的多层光学薄膜的高折射率膜层和低折射率膜层,直至待校准的多层光学薄膜的高折射率膜层和低折射率膜层的厚度比达到设定值;3)若在使用高折射率膜层修正挡板和低折射率膜层修正挡板后使待校准的多层光学薄膜的实测中心波长偏离原设定值,则当待校准的多层光学薄膜的膜厚偏离量大于零时,将待校准的多层光学薄膜的中心波长调小至设定值;当待校准的多层光学薄膜的膜厚偏离量小于零时,将待校准的多层光学薄膜的中心波长调大至设定值。
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