[发明专利]一种采用硫化物去除工业硅中硼磷杂质的方法无效
| 申请号： | 201010177791.7 | 申请日： | 2010-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN101837980A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 罗学涛;龚惟扬;李锦堂;吴浩;沈晓杰 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种采用硫化物去除工业硅中硼磷杂质的方法，涉及工业硅。将渣料预熔；将预熔后的渣料与工业硅混合后放入石墨坩埚，抽真空，当真空度小于500Pa时启动罗茨泵，使真空在5Pa以下，接着关闭真空阀，通过石墨通气棒向体系通入Ar气，使真空度维持在5000～10000Pa；启动中频感应电源加热，待熔化后将石墨通气棒降至硅液表面上方1～3cm预热后，通入Ar气，并将通气棒插入硅液，通气搅拌；测量熔液温度，通过调节中频频率使反应温度维持在1600～1800℃；造渣后将通气棒升离坩埚，将熔炼完成的熔液浇注入模具中，凝固，得硅锭，完成采用硫化物去除工业硅中硼磷杂质的工作。可操作性强，适合于产业化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 硫化物 去除 工业 硅中硼磷 杂质 方法 | ||
【主权项】：
一种采用硫化物去除工业硅中硼磷杂质的方法，其特征在于包括以下步骤：1)将渣料预熔；2)将预熔后的渣料与工业硅混合后放入石墨坩埚，抽真空，当真空度小于500Pa时启动罗茨泵，使真空在5Pa以下，接着关闭真空阀，通过石墨通气棒向体系通入Ar气，使真空度维持在5000～10000Pa；3)启动中频感应电源加热，待熔化后将石墨通气棒降至硅液表面上方1～3cm预热后，通入Ar气，并将通气棒插入硅液，通气搅拌；4)测量熔液温度，通过调节中频频率使反应温度维持在1600～1800℃；5)造渣后将通气棒升离坩埚，将熔炼完成的熔液浇注入模具中，凝固，得硅锭，完成采用硫化物去除工业硅中硼磷杂质的工作。
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