[发明专利]能够进行光刻处理的金属光学滤波器及包括该滤波器的图像传感器无效

专利信息
申请号: 201010178236.6 申请日: 2010-05-11
公开(公告)号: CN101887142A 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 李炳洙;金信;李相信;尹汝泽 申请(专利权)人: (株)赛丽康
主分类号: G02B5/22 分类号: G02B5/22;H01L27/146
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开了能够进行光刻处理的金属光学滤波器和包括该金属光学滤波器的图像传感器,更特别地,提供了能够进行光刻处理的金属光学滤波器和包括该金属光学滤波器的图像传感器,即使该金属光学滤波器具有较少数量的金属层也能够自由地调节其透射带及透射率,同时因为可以通过光刻处理实现纳米构图,所以该金属光学滤波器能够实际应用到CMOS处理中。能够进行光刻处理的金属光学滤波器包括:以相等的纳米间距相互平行地布置的多个金属棒;以及形成于所述多个金属棒之间以及所述多个金属棒的上表面和下表面上的绝缘材料;其中,所述金属棒形成为包括上部Ti层、Al层和下部TiN层。
搜索关键词: 能够 进行 光刻 处理 金属 光学 滤波器 包括 图像传感器
【主权项】:
一种能够进行光刻处理的金属光学滤波器,所述金属光学滤波器包括:多个金属棒,以相等的纳米间距相互平行地布置;以及绝缘材料,形成于所述多个金属棒之间以及所述多个金属棒的上表面和下表面上;其中,所述金属棒形成为包括上部Ti层、Al层和下部TiN层。
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