[发明专利]X射线位相成像装置有效

专利信息
申请号: 201010180951.3 申请日: 2010-05-18
公开(公告)号: CN101833233A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 孙天希;李玉德;刘志国;林晓燕;罗萍;潘秋丽;滕玥鹏 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: G03B42/02 分类号: G03B42/02;G21K1/00;G01N23/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波;逯长明
地址: 100875 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种X射线位相成像装置,包括依次排列的X射线光源(1)、光学器件(2)和X射线探测器(4),所述X射线光源(1)发出的X射线沿所述光学器件(2)的一端到另一端,并形成微焦斑(5),经过被成像的样品(3)后,在所述X射线探测器(4)上成像,所述光学器件(2)为单毛细管。该成相装置可以形成尺寸更小的微焦斑,以提高X射线位相成像的空间分辨率,使X射线位相成像更清晰,而且该装置造价低廉,便于推广。
搜索关键词: 射线 位相 成像 装置
【主权项】:
一种X射线位相成像装置,包括依次排列的X射线光源(1)、光学器件(2)和X射线探测器(4),所述X射线光源(1)发出的X射线沿所述光学器件(2)的一端到另一端,并形成微焦斑(5),经过被成像的样品(3)后,在所述X射线探测器(4)上成像,其特征在于,所述光学器件(2)为单毛细管。
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