[发明专利]一种半导体专用设备用晶片传输装置

摘要

一种半导体专用设备用晶片传输装置，该装置包括吸片升降缓冲装置和摆臂旋转系统，本发明包括升降缓冲吸附台以及与升降缓冲吸附台可调连接的摆臂；所述升降缓冲吸附台包括装配在一起的吸片台(7)、上、下弹簧垫(1、6)、小轴(3)、弹簧(4)、滑套(5)、小轴锁母(2)弹簧下垫(6)与吸片台(7)接触端面开设有环形下凹气道(14)，吸片台(7)的下表面上均匀布设有同心环形凹槽(15)，并设有将各环形凹槽(15)沟通的两条呈垂直的径向凹槽(16)。该装置具有结构微妙紧凑，安装简单，应用方便，成本低廉的特点，可广泛应用于半导体专用设备中晶片的传输。

主权项

一种半导体专用设备用晶片传输装置，其特征在于：其包括升降缓冲吸附台以及和升降缓冲吸附台可调连接的摆臂(12)；所述升降缓冲吸附台包括装配在一起的吸片台(7)、上、下弹簧垫(1、6)、小轴(3)、弹簧(4)、滑套(5)、小轴锁母(2)，其中上、下弹簧垫(1、6)及吸片台(7)由穿过上、下弹簧垫(1、6)的小轴(3)连接起来，小轴(3)的下端与吸片台(7)螺纹连接，小轴(3)上端设有螺纹连接的小轴锁母(2)，小轴(3)至少设置有三个为均匀分布；弹簧(4)套在小轴(3)上位于上、下弹簧垫(1、6)之间，弹簧(4)两端分别与滑套(5)和弹簧下垫(6)连接，滑套(5)套在弹簧(4)上位于上弹簧垫(1)之下，上弹簧垫(1)上设有与滑套(5)配套的凹坑；在小轴锁母(2)上设有紧固螺钉(13)，弹簧下垫(6)与吸片台(7)接触的端面上开设有环形下凹气道(14)；吸片台(7)的下表面上均匀布设有同心环形凹槽(15)，并设有将各环形凹槽(15)沟通的两条互垂直的径向凹槽(16)。