[发明专利]真空边缘夹持机构有效

专利信息
申请号: 201010183226.1 申请日: 2010-05-26
公开(公告)号: CN102023487A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 魏猛;胡延兵 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/26
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 张志伟
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及涂胶显影领域,具体为一种真空边缘夹持机构,用于在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备。该机构设有夹持块、活塞、承片台、复位弹簧,承片台中开有活塞腔,活塞腔中设置活塞,活塞的一端设置复位弹簧于活塞腔内,活塞的另一端与夹持块连接,活塞腔与承片台下面的轴安装孔相通。本发明采用真空形式将两个夹持块向承片台中心部分夹紧,防止高速旋转时晶片脱落或飞出,同时对晶片进行对中处理,解决现有技术中晶片在进入到离心单元前都要做对中处理,整个处理过程时间长等问题。
搜索关键词: 真空 边缘 夹持 机构
【主权项】:
一种真空边缘夹持机构,其特征在于:该机构设有夹持块、活塞、承片台、复位弹簧,承片台中开有活塞腔,活塞腔中设置活塞,活塞的一端设置复位弹簧于活塞腔内,活塞的另一端与夹持块连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳芯源微电子设备有限公司,未经沈阳芯源微电子设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010183226.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top