[发明专利]电子装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201010184335.5 | 申请日： | 2010-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN101894808A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 中谷忠司;井上广章;山田齐;上田知史 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/12 | 分类号： | H01L23/12;H01L21/00;H01H59/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 赵飞;南霆 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电子装置及其制造方法。该电子装置包括衬底；设置在衬底上方的可移动电极；设置为面向可移动电极的静止电极；设置在衬底上并且围绕可移动电极和静止电极的墙部分；膜构件，其固定到在可移动电极和静止电极上方的墙部分，并且膜构件密封包括可移动电极和静止电极的空间；以及支撑部分，除了可移动电极和静止电极之外，还将支撑部分设置在衬底上的墙部分的内侧，以从空间的内部支撑膜构件。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种电子装置，包括：衬底；可移动电极，其设置在所述衬底上方；静止电极，其设置为面向所述可移动电极；墙部分，其设置在所述衬底上并且围绕所述可移动电极和所述静止电极；膜构件，其固定到在所述可移动电极和所述静止电极上方的所述墙部分，并且所述膜构件密封包括所述可移动电极和所述静止电极的空间；以及支撑部分，除了所述可移动电极和所述静止电极之外，还将所述支撑部分设置在所述衬底上的所述墙部分的内侧，以从所述空间的内部支撑所述膜构件。
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