[发明专利]一种低熔点金属旋转靶材及生产技术

摘要

本发明涉及一种低熔点金属旋转靶及生产技术，该旋转靶由一个金属衬管和一个同心包围的金属外管(靶材)组成。该旋转靶衬管材料的熔点高于1000℃，靶材材料的熔点低于800℃，靶材和衬管紧密结合。依照本发明设计的方式，衬管和一个圆筒形铸模以同轴心的方式共同构成铸模内腔。圆筒形铸模外有一个环形的区域熔炼装置。首先对铸模和衬管进行预加热，然后将熔融态的金属注入铸模内腔。金属熔液冷凝后，通过区域熔炼的方法将靶材中的杂质排移到靶材一端。如果进一步重熔、快凝，可以得到高纯度、细晶靶材。脱模后将杂质含量高的端部切除。用该方法可以生产纯度高达5N～8N的锡、锌、铟、铝、铋、锑等单金属靶材以及由这些低熔点金属为主要元素的合金靶材。

主权项

一种磁控溅射旋转靶材的制造方法。该旋转靶由一个金属衬管和一个同心包围的金属外管(靶材)组成。该旋转靶衬管材料为非磁性材料，其熔点高于1000℃，靶材材料的熔点低于800℃，靶材和衬管紧密结合。其特征是：衬管和一个易拆卸的、内径略大于靶材外径的圆筒形铸模以同轴心的方式共同构成铸模内腔，以供熔融状的靶材材料充填。圆筒形铸模外有一个环形的区域熔炼装置。首先对铸模和衬管进行预加热，然后将熔融态的金属由下而上地注入铸模内腔，然后用塞子塞住浇铸口。金属熔液冷凝后，通过区域熔炼的方法将靶材中的杂质排移到靶材一端。这样可以得到高纯度、粗大晶粒的靶材。如果进一步重熔、快凝靶材材料，则可以得到高纯度、细晶靶材。