[发明专利]一种镭射信息层的制造方法无效
申请号: | 201010186635.7 | 申请日: | 2010-05-27 |
公开(公告)号: | CN102259544A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 金哲 | 申请(专利权)人: | 禹辉(上海)转印材料有限公司 |
主分类号: | B44B5/00 | 分类号: | B44B5/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 赵志远 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种镭射信息层的制造方法,该方法包括以下步骤:在镭射信息载体膜上模压镭射信息;在基膜上涂布一层镭射涂层;将涂布后的基膜与镭射信息载体膜进行复合;将镭射信息载体膜从复合后的镭射涂层基膜上剥离下来;将镭射涂层基膜放入烘箱中熟化;镭射信息载体膜剥离后在下一次制造镭射信息层中使用,从而避免了反复模压。本发明减少了模压设备的投入与电铸版的制做,避免了模压过程中控制不当造成的粘版、信息缺损的状况,且复合工艺简单、易操作。 | ||
搜索关键词: | 一种 镭射 信息 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种镭射信息层的制造方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:(1)在镭射信息载体膜上模压镭射信息;(2)在基膜上涂布一层镭射涂层;(3)将步骤(2)涂布后的基膜与步骤(1)模压后的镭射信息载体膜进行复合;(4)将镭射信息载体膜从复合后的镭射涂层基膜上剥离下来;(5)将步骤(4)得到的镭射涂层基膜放入烘箱中熟化,形成镭射信息层即得产品。
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