[发明专利]多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法

摘要

本发明提供多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法。更加精密地控制在被转印体上形成的抗蚀剂图案的级差形状。多色调光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、透光部、第1半透光部和第2半透光部在内的转印图案，其中，第1半透光部针对曝光光的透过率小于第2半透光部针对曝光光的透过率，对透过第1半透光部的曝光光与透过第2半透光部的曝光光之间的相位差进行控制，以使由透过第1半透光部的曝光光与透过第2半透光部的曝光光之间的干涉而形成的光强度为透过第1半透光部的曝光光的强度以上。

主权项

一种多色调光掩模，该多色调光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、透光部、第1半透光部和第2半透光部在内的转印图案，其特征在于，所述第1半透光部针对曝光光的透过率小于所述第2半透光部针对所述曝光光的透过率，透过所述第1半透光部的所述曝光光与透过所述第2半透光部的所述曝光光之间的相位差被控制为，使得由于透过所述第1半透光部的所述曝光光与透过所述第2半透光部的所述曝光光之间的干涉而形成的光强度为透过所述第1半透光部的所述曝光光的光强度以上。