[发明专利]一种真空干法刻蚀机的静电处理方法及装置有效
申请号: | 201010192275.1 | 申请日: | 2010-05-26 |
公开(公告)号: | CN102263408A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 左迪建;张进 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | H02H9/04 | 分类号: | H02H9/04 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种真空干法刻蚀机的静电处理装置,用以解决现有技术中真空干法刻蚀机传片故障率高的问题。该装置包括电极和机械手臂,所述真空干法刻蚀机还包括静电释放控制模块,所述静电释放控制模块的一端与所述电极相连,另一端接地,用于控制所述电极与地的开合。本发明实施例还提供了一种真空干法刻蚀机的静电处理方法。如本发明提出的方案,通过静电释放控制模块控制电极与地的开合,从而实现将真空干法刻蚀机上聚集的静电释放到大地,进而降低真空干法刻蚀机的传片故障率。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 刻蚀 静电 处理 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种真空干法刻蚀机,包括:电极和用于通过抓爪抓取所述电极上传输的晶圆的机械手臂,其特征在于,还包括静电释放控制模块;所述静电释放控制模块的一端与所述电极相连,另一端接地,用于控制所述电极与地的开合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司,未经北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010192275.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:签约业务处理方法和网关及系统
- 下一篇:甲磺酸伊马替尼多晶型物及其药用组合物