[发明专利]一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201010200419.3 | 申请日： | 2010-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101864047A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 周钰明;符嫦娥;谢洪涛;吴文导;孙伟 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C08F290/06 | 分类号： | C08F290/06;C08F222/06;C08F220/06;C08F222/02;C02F5/10 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人： | 汤志武 |
| 地址： | 211109 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明提供一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂及其制备方法，该阻垢剂适用于高钙高pH工业循环冷却水系统中磷酸钙的阻垢，是由含不饱和双键的羧酸酯聚醚单体、不饱和羧酸单体、不饱和芳香族化合物单体进行自由基聚合反应而得，其结构通式如下： |
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| 搜索关键词： | 一种 紫外 耐高钙高 ph 阻垢剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂，其特征在于该阻垢剂由含不饱和双键的羧酸酯聚醚单体、不饱和羧酸单体、不饱和芳香族化合物单体进行自由基聚合反应而得，其结构通式如下：![]()
其中：E是不饱和芳香族化合物单体自由基共聚后的重复结构单元；R1为-H或-COOH；R2、R3和R4为-H或C1～C4的低碳烷基；R5为C1～C4的低碳烷基、-H、-SO3M、-CH2COOM、-CH(CH3)COOM、-CH(CH2CH3)COOM中的一种，M为H+或K+或Na+；聚合度x为1～5000，聚合度y为1～5000，聚合度z为1～5000，聚合度n为1～100。
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