[发明专利]一种大视场宽谱线光刻投影物镜

摘要

一种大视场宽谱线光刻投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次设置前组透镜组，孔径光阑，后组透镜组。前组透镜组由三组透镜组组成，后组透镜组相对孔径光阑与前组透镜组对称。本发明提出的大视场宽波段光刻镜头，像方半视场为100mm，适用g线，h线和i线波段，能够收集到足够的汞灯光谱能量，便于达到较高的产率，并且数值孔径达到0.1，能够用于曝光微细线条，同时结构较简单，只包含16-18片镜片。

主权项

一种光刻投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，其特征在于从所述物平面开始沿光轴依次设置：具有正光焦度的第一透镜组；具有负光焦度的第二透镜组；具有正光焦度的第三透镜组；孔径光阑；具有正光焦度的第四透镜组，；所述第四透镜组与第三透镜组关于孔径光阑对称；具有负光焦度的第五透镜组；所述第五透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及具有正光焦度的第六透镜组；所述第六透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称；其中，所述第一透镜组满足以下关系式：1.2＜f1/f＜4.055＜V1‑1＜820.370＜P1‑1＜0.37326＜V1‑2＜330.354＜P1‑2＜0.360其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f1为第一透镜组的焦距；V1‑1为第一透镜组中第一个透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh‑1)/(Ni‑Ng)；P1‑1为第一透镜组中第一个透镜材料的相对色散，P＝(Nh‑Ng)/(Ni‑Ng)；V1‑2为第一透镜组中第二个透镜材料的阿贝数，定义同上；P1‑2为第一透镜组中第二个透镜材料的相对色散，定义同上；所述第二透镜组满足以下关系式：f2/f＜‑0.830＜V2n＜550.358＜P2n＜0.371其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f2为第二透镜组的焦距；V2n为第二透镜组中负透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh‑1)/(Ni‑Ng)；P2n为第二透镜组中负透镜材料的相对色散，P＝(Nh‑Ng)/(Ni‑Ng)；所述第三透镜组满足以下关系式：0.4＜f3/f＜355＜V3‑1，2＜820.370＜P3‑1，2＜0.37330＜V3‑3＜550.358＜P3‑3＜0.371其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f3为第三透镜组的焦距；V3‑1，2为第三透镜组中第一和第二透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh‑1)/(Ni‑Ng)；P3‑1，2为第三透镜组中第一和第二透镜材料的相对色散，定义为P＝(Nh‑Ng)/(Ni‑Ng)；V3‑3为第三透镜组中第三透镜材料的阿贝数，定义同上；P3‑3为第三透镜组中第三透镜材料的相对色散，定义同上。