[发明专利]一种反极性AlGaInP红光LED芯片电流扩展的制作方法无效

专利信息
申请号: 201010206097.3 申请日: 2010-06-23
公开(公告)号: CN101908594A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 夏伟;徐现刚;苏建;张新;张秋霞;陈康;任忠祥 申请(专利权)人: 山东华光光电子有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250101 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供了一种反极性AlGaInP红光LED芯片电流扩展的制作方法,包括以下步骤:在AlGaInP红光LED外延片的P面蒸镀的金属层上光刻出圆形图案,将这些圆形图案以外的金属层去掉,形成一个个金属小圆柱;使P面的外延层与金属层形成欧姆接触;在整个P面上淀积介质膜;在介质膜上用光刻的方法套刻圆形图案,腐蚀掉每个圆形图案上的介质膜,形成电流窗口;在介质膜和电流窗口上蒸发金属,形成一个莲蓬式的电流扩展层;采用常规晶片粘接工艺,将GaAs衬底置换为Si或SiC衬底。本发明以多孔结构组成莲蓬式的电流扩展,使电流得到了很好的扩展,大大提高了LED的发光效率。
搜索关键词: 一种 极性 algainp 红光 led 芯片 电流 扩展 制作方法
【主权项】:
1.一种反极性AlGaInP红光LED芯片电流扩展的制作方法,其特征是,包括以下步骤:(1)按常规方法在制备好的AlGaInP红光LED外延片的P面蒸镀金属层;(2)在P面蒸镀的金属层上光刻出一个个直径为20um-30um的圆形图案,所有图形图案占整个外延片P面面积的40-50%,将这些圆形图案以外的金属层去掉,形成一个个金属小圆柱;(3)使用高温扩散炉,在氮气流量5L/min的条件下,在450℃退火5分钟,使P面的外延层与金属层形成欧姆接触;(4)采用PECVD工艺在整个P面上淀积介质膜;(5)在介质膜上用光刻的方法套刻圆形图案,腐蚀掉每个圆形图案上的介质膜,形成电流窗口;(6)在介质膜和电流窗口上蒸发金属,厚度形成一个莲蓬式的电流扩展层;(7)采用常规晶片粘接工艺,将GaAs衬底置换为Si或SiC衬底;(8)按常规工艺完成芯片的其它工艺步骤。
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