[发明专利]具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010206997.8 申请日: 2010-06-23
公开(公告)号: CN101891144A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 傅强;陈枫;杨静晖;王琦 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: B82B1/00 分类号: B82B1/00;B82B3/00
代理公司: 成都科海专利事务有限责任公司 51202 代理人: 唐丽蓉
地址: 610207 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开的具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜,该薄膜的其中一面上压印有沟槽深度为15~50nm,沟槽宽度为100~800nm,平台宽度为100~800nm尺寸的沟槽,且其为二氧化钛锐钛矿晶型膜。本发明还公开了该薄膜的制备方法。本发明提供的二氧化钛薄膜不仅具有纳米尺度图案,且其晶型经高温处理后已转变为了锐钛矿晶型,因而可大大提高二氧化钛薄膜的催化效率,增加结构的稳定性,使其应用范围和使用价值得到进一步的提高,同时还解决了现有技术采用长链烷烃图案化在自组装过程中界面不清,成本较高,后处理工艺复杂且不适宜大规模工业化生产的问题。
搜索关键词: 具有 纳米 尺度 图案 氧化 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜,该薄膜的其中一面上压印有纳米尺寸的沟槽,且其为二氧化钛锐钛矿晶型膜。
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