[发明专利]基于齐聚噻吩的X型二维或三维共轭分子及其制备方法和应用无效
申请号: | 201010207242.X | 申请日: | 2010-06-23 |
公开(公告)号: | CN102219773A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 占肖卫;尚会霞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C07D333/20 | 分类号: | C07D333/20;C07D333/08;C07D333/24;H01L51/46;H01L51/30;H01G9/20;H01M14/00;H01L51/54;C09K11/06 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 李柏 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明涉及一类基于齐聚噻吩的X型二维或三维共轭分子及其制备方法,以及该类分子作为活性层材料在有机半导体器件如有机太阳能电池(OPV)、染料敏化太阳能电池(DSC)、有机场效应晶体管(OFET)和有机发光二极管(OLED)中的应用。本发明的基于噻吩的X型共轭分子具有较好的太阳光捕获能力和空穴传输能力,并且具有很好的溶液加工性和热稳定性,所以它们是有机半导体器件如OPV、DSC、OFET和OLED中理想材料。其具有以下通式结构: |
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搜索关键词: | 基于 齐聚 噻吩 二维 三维 共轭 分子 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于噻吩的X型二维或三维共轭分子,其特征是,所述的基于噻吩的X型二维或三维共轭分子具有式I所示的通式结构:
其中:D1、D2、D3、D4独立的为氢原子、或式II所示的带有R1取代基的三苯胺、或式III所示的带有R2,R3取代基的齐聚噻吩基团;
m为1~6;R1为氢、甲基、正丁基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、正十一烷氧基或正十二烷氧基中的一种;R2为氢、甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、2一乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基或正十二烷基中的一种;R3为氢、甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、环己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基中的一种;或R3为具有以下结构的2-氰基丙烯酸;
或R3为具有式IV所示的与带有R4,R5取代基的齐聚噻吩相连的苯并噻二唑;
n为1~6;R4为氢、甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基或正十二烷基中的一种;R5为氢、甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、环己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基或正十二烷基中的一种。
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