[发明专利]晶片清洗设备

摘要

本发明公开了一种晶片清洗设备，包括：清洗室；与所述清洗室相邻设置的烘干室；以及贯穿所述烘干室的传输部，其中烘干室进一步包括：进料口和出料口；至少一个进风口，设置在传输部的上方；与进风口相对应的至少一个加热器；设置在所述传输部与进风口的相对一侧的抽风口；和第一气体导流件，所述第一气体导流件设置在传输部的上游处且位于抽风口的一侧、与所述传输部相邻。根据本发明的晶片清洗设备，不但可以避免清洗室中含有大量清洗用化学用品的气体进入烘干室中而降低对后续干燥过程中对晶片造成的污染，还可以降低外部空气在后续干燥过程中对晶片造成的污染，清洗效果好，设备结构简单。

主权项

一种晶片清洗设备，包括：清洗室；烘干室，所述烘干室与所述清洗室相邻设置；以及传输部，所述传输部贯穿所述烘干室而设置，用于将待清洗晶片从清洗室传输至烘干室，其中所述烘干室进一步包括：用于运入和运出所述待清洗晶片的进料口和出料口，所述传输部通过进料口；至少一个进风口，所述进风口设置在所述传输部的上方；与所述进风口相对应的至少一个加热器，用于加热供给的气体；设置在所述传输部与进风口的相对一侧的抽风口，用于排出烘干室内的气体；和第一气体导流件，所述第一气体导流件设置在贯穿所述烘干室的传输部的上游处且位于抽风口的一侧、与所述传输部相邻，用于阻止来自清洗室的气流从贯穿所述烘干室的传输部的上游处流入烘干室。