[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201010209502.7 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN101930976A 公开(公告)日: 2010-12-29
发明(设计)人: 三好诚二;冈田哲也;有本志峰 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L29/861
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 李芳华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种将Si-FRD的阳极和Si-SBD的阴极串联连接的半导体装置。在Si-FRD中存在释放被积累的电荷量Qrr为止的时间即反向恢复时间trr长的问题,要消除该问题,却存在正向电压VF增高的问题。Si-SBD作为器件本身的特性,反向恢复时间短,但要实现高击穿电压的器件,正向电压VF变得非常大。即无论是Si-FRD、Si-SBD,VF-trr特性都处于折中的关系。相对于此,SiC-SBD的正向电压VF低且反向恢复时间trr也短,因此能够改善VF-trr特性。但是SiC-SBD的价格非常贵。Si-SBD的结电容可累积的电荷量是Si-FRD在反向恢复时产生的电荷量的同等以上。Si-SBD与S-FRD相比,击穿电压变低。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:pn结二极管;以及肖特基势垒二极管,所述pn结二极管的阳极和所述肖特基势垒二极管的阴极串联连接。
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