[发明专利]具有稳定微结构的相变存储器装置及集成电路的制造方法有效
申请号: | 201010213139.6 | 申请日: | 2010-06-12 |
公开(公告)号: | CN101924072A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 李明修 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L27/24;H01L45/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有稳定微结构的相变存储器装置及集成电路的制造方法。此相变材料元件在主动区中具有经修改的化学计量,其在设定状态中并不展现出电阻的漂移。一种制造此存储器装置的方法,包含:首先制造包含相变存储单元的阵列的集成电路,相变存储单元的阵列具有具总体化学计量的相变材料的主体;接着将成形电流施加至阵列中的相变存储单元,以使相变材料的主体的主动区中的总体化学计量改变为经修改的化学计量,而不干扰主动区外部的总体化学计量。总体化学计量的特征在于主动区外部的热力学条件下的稳定性,而经修改的化学计量的特征在于主动区内部的热力学条件下的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 具有 稳定 微结构 相变 存储器 装置 集成电路 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造集成电路的方法,其特征在于,包括:在一集成电路基板上提供一相变存储单元的一阵列,该相变存储单元在具有一总体化学计量的一相变材料的主体内具有一主动区;以及将一成形电流施加至该阵列中的该相变存储单元,以在该主动区中形成具有一经修改的化学计量的该相变材料,该经修改的化学计量不同于该总体化学计量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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